Wesentlicher Beitrag zur EUV-Technologie
Quelle: Deutscher Zukunftspreis / Ansgar Pudenz
Deutscher Zukunftspreis 2020. Das Bundespräsidialamt hat die Nominierten für den Deutschen Zukunftspreis 2020 bekannt gegeben. Im Kreis der Besten – den drei Projekten für die Endrunde des Preises des Bundespräsidenten für Technik und Innovation – ist ein Experten-Team von Trumpf, Zeiss und dem Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF.
Mit ihrem Projekt ›EUV-Lithografie – Neues Licht für das digitale Zeitalter‹ sind Dr. Sergiy Yulin vom Fraunhofer IOF in Jena, Dr. Peter Kürz, Zeiss-Sparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT), und Dr. Michael Kösters, Trumpf Lasersystems for Semiconductor Manufacturing, nominiert (im Bild v.l.). Weltweit einziger Hersteller für EUV-Lithografie-Maschinen ist die niederländische Firma ASML, die als Integrator die Architektur des Gesamtsystems und insbesondere die EUV-Quelle entworfen hat. Schlüsselkomponenten dieser Maschinen sind der Hochleistungslaser von Trumpf für die EUV-Lichtquelle und das optische System von Zeiss. EUV steht für ›extrem ultraviolett‹, also Licht mit extrem kurzer Wellenlänge. Mit dieser Technologie lassen sich weitaus leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als jemals zuvor. Denn ohne weiterhin stark steigende Rechenleistung keine erfolgreiche Digitalisierung: Heute hat bereits ein Smartphone die millionenfache Rechenpower des Computers, der 1969 die erste Mondlandung begleitete. Ermöglicht wird dies durch einen kaum fingerkuppengroßen Mikrochip, auf dem sich mehr als zehn Milliarden Transistoren befinden. Das Fertigungsverfahren für die neuesten Chip-Generationen fußt auf der Nutzung von EUV-Licht, die bisherige Grenzen des technisch Machbaren überwindet. Von der Lichtquelle über das optische System im Vakuum bis zur Oberflächenbeschichtung der dabei eingesetzten Spiegel musste praktisch die gesamte Belichtungstechnologie von Grund auf neu entwickelt werden.
An den Fraunhofer-Instituten und Einrichtungen wird bereits seit drei Jahrzehnten im Bereich der EUV-Lithographie geforscht. Die Forscherinnen und Forscher waren maßgeblich an der Entwicklung der ersten EUV-Spiegel und Strahlquellen beteiligt und legten damit den Grundstein für den Durchbruch dieser Technologie.
Die drei Nominierten haben einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie geleistet. Das Resultat ist eine durch über 2.000 Patente abgesicherte Zukunftstechnologie, die Basis für den künftigen technischen Fortschritt und die Digitalisierung unseres Alltags ist.