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Feinstreinigung von komplexen Bauteilen



LPW-Anlage im Einsatz: Die Dampflasen während der Reinigung mit CNp sind typisch und inzwischen in zahlreichen Industriebetrieben mit unterschiedlichsten Anforderungen der hochwertigen Reinigung zu sehen (Quelle: LPW)

CNp-Verfahren spielt bei kapillaren Strukturen sowie komplexen Geometrien Vorteile aus. Die Herstellung von Flatscreens, Sensortechnik, Mikrochips oder medizinischen Implantaten benötigt eine hochreine Fertigungsumgebung. Daraus resultieren auch sehr hohe Ansprüche an die industrielle Bauteilreinigung. LPW Reinigungssysteme aus Riederich bietet Anwendern unter anderem mit der ›CNp‹-Technik (Cyclic Nucleation process oder auch Zyklische Nukleation) eine Lösung.

 

Das Verfahren ist bei der Reinigung von kapillaren Strukturen sowie komplexen Geometrien besonders leistungsstark und beinhaltet im Wesentlichen dieses Wechselspiel: die jeweils flüssigkeitsspezifische Dampfdruckkurve wirkt mit den bekannten Reinigungseffekten, der Kavitation und dem asymmetrischen Volumenstrom, unmittelbar auf der laminaren Grenzschicht eines Bauteils. Dies hat die Extraktion der Kontamination zur Folge sowie deren Zuführung zu einer Aufbereitung oder Analyseprobe-Vorbereitung. Außerdem kann der Effekt der Zyklischen Nukleation durch die Zugabe einer waschaktiven Flüssigkeit (zum Beispiel Reiniger) verstärkt werden.

 

Die wirksamen Mechanismen zeigen sich auf der gesamten medienberührten Bauteiloberfläche – auch unterhalb der laminaren Grenzschicht sowie zwischen dem Bauteil und der Verunreinigung. Ebenso werden in kapillaren Umgebungen kontinuierliche Reinigungs- und Spüleffekte bis in den zweistelligen μm-Bereich erzeugt.

 

Derzeit sind einzelne Druckwechsel von 5 bis 7 s bei Großanlagen (Mit Kammervolumen aktuell zwischen circa 500 bis 3.500 l) und bis zu 1 s bei kleineren Kammern möglich. Die neuen, teilweise schon patentierten Verfahren (Dynamic CNp) sind, wie das Unternehmen erklärt, bereits in der anlagentechnischen Umsetzung und erlauben in naher Zukunft deutlich kürzere Druckwechselzeiten.

 

»CNp wirkt einfach und unproblematisch, birgt jedoch große Herausforderungen bezüglich der technischen Auslegung, Materialermüdung von Baugruppen und programmtechnischen Komponenten. Wir haben in den vergangenen sieben Jahren viel Zeit und Geld in diese Technologie investiert und schlussendlich ein Verfahren erarbeitet, welches den Anwendern sichere und stabile Prozesse unter produktivem Umfeld erlaubt«, so Gerhard Koblenzer.

 

Bereits 2015 übernahm LPW mehrere grundlegende Schutzrechte im außereuropäischen Ausland. Seitdem wurde das Patentportfolio für das CNp-Verfahren kontinuierlich ausgebaut sowie spezifiziert. In diesem Jahr kamen nun zwei neue Europäischen Patente (EP 3717141 B1 und EP 2212906 B1) hinzu.

 

LPW Reinigungssysteme GmbH

72585 Riederich

www.lpw-cleaning.com