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In neue Fertigungsanlage investiert



Konzeptbild der neuen Fab Quelle: studiobrand.3dvisuals

Ausstattung für Hightech-Fab in Dresden. Der Photonik-Konzern Jenoptik investiert einen niedrigen zweistelligen Millionenbetrag in den Anlagenpark der derzeit entstehenden Hightech-Fab in Dresden. Mit der neuen Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage (›E-Beam‹) werden zukünftig hochpräzise mikrooptische Komponenten für Kunden aus dem Halbleitersegment und der optischen Kommunikation hergestellt. Die Lieferung der Anlage erfolgt Anfang 2025. Hersteller ist die in Jena ansässige Vistec Electron Beam GmbH.

 

Eine solche Elektronenstrahl-Lithografie-Anlage kann Strukturen mit einer Präzision im Bereich von 10-Nanometern auf bis zu 300 mm großen Substraten ›schreiben‹. Die Anlage ›Vistec SB3050-2‹ basiert auf dem sogenannten variablen Formstrahl-Prinzip, mit dem auch große Flächen hochgenau und effektiv strukturiert werden können. Der hohe Automatisierungsgrad, bei gleichzeitiger Flexibilität in Bezug auf nutzbare Substrate, sind weitere Eigenschaften der Anlage, die deren Einsatz in industrieller Umgebung ermöglichen. Die Ausstattung der Anlage mit Zellprojektions-Funktionalität eröffnet weitere Möglichkeiten für Anwendungen in der Mikrooptik.

 

Jenoptik ist bereits seit 2007 in Dresden aktiv. Mit der neuen Hightech-Fab im Airportpark Dresden bündelt das Unternehmen die aktuell über mehrere kleine Außenstandorte verteilte Fertigung, gleichzeitig werden die Kapazitäten erweitert. So erstreckt sich die Reinraumproduktion in der neuen Fab nach Angaben des Unternehmens auf 2.000 Quadratmeter mit Reinraumbereichen der Klassen ISO 5 und 3 und genügt höchsten Anforderungen an Schwingungsfreiheit und Temperaturkonstanz.

 

Für die gesamte Fab werden hohe Umweltstandards berücksichtigt. Gleichzeitig entstehen hochwertige Arbeitsplätze, die Mitarbeiterzahl wird sich vor Ort auf insgesamt mehr als 120 Beschäftigte erhöhen.

 

www.vistec-semi.com

www.jenoptik.de