Positionierlösung für die DUV-Lithografie
Steinmeyer hat eine kompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung in trockener, sauerstofffreier Stickstoff-Atmosphäre vorgestellt
Add-on zur Integration in eine bestehende Maschine. Für die DUV-Lithografie hat Steinmeyer am Standort Dresden eine sehr kompakte, hochpräzise Positionierlösung zur Wafer-Belichtung in trockener, sauerstofffreier Stickstoff-Atmosphäre entwickelt. Die Baugruppe ist als optionales Add-on zur Integration in eine bestehende Maschine konzipiert und überzeugt laut Hersteller insbesondere durch Kompaktheit, Zuverlässigkeit sowie Partikelarmut.
Die Steinmeyer Gruppe konstruiert, entwickelt und produziert anspruchsvolle Positionierlösungen für die Wafer- und Chip-Herstellung. Als Paradebeispiel für die hohe Lösungskompetenz am Standort Dresden führt das Unternehmen den ergänzenden Polarisationsfilter für die Miniaturisierung und Automatisierung in der DUV-Lithografie an. Dieser ist mit Abmessungen von circa 120 x 180 x 31 mm sehr kompakt gebaut. Auf einer Höhe von gerade einmal 15 mm sind drei flächige Filter untergebracht, die im Strahlengang der optischen Anlage verschoben werden und unabhängig voneinander positionierfähig sind. Aus der Relativlage der drei Filter untereinander ergibt sich die gewünschte Filtereigenschaft. Der Antrieb erfolgt mittels Gleitgewindetrieb (Hub 75 mm) und elektronisch kommutierter DC-Motoren. Dabei verfügt jeder Filter über einen eigenen Antriebsstrang, der zum Schutz vor der DUV-Strahlung mit einem Stahlblech abgedeckt ist. Das System ist trockenlaufend, ermöglicht laut Hersteller Genauigkeiten bis zu 1,5 µm und bietet einen wartungsfreien und flexiblen 24/7 Betrieb über viele 1.000 Stell-Zyklen (verteilt über 10 Jahre).
Partikelarm laufender Gleitgewindetrieb
Der Miniatur-Gleitgewindetrieb ist das Herzstück der Baugruppe. Er wurde am Standort Suhl speziell für Anwendungen in der DUV-Lithografie entwickelt und gehört mit einem Spindeldurchmesser von lediglich 3 mm und einer Spindellänge von 112 mm zu den kleinsten am Markt in dieser Präzision.
Ob Handling, Inspektion oder Montage, ob HV-, UHV- oder EUV-Positionierung: Steinmeyer hat jahrzehntelange Erfahrung in der Konstruktion und Herstellung von Positioniersystemen für Halbleiteranwendungen. Die Systeme werden kundenindividuell auf die applikationsspezifischen Anforderungen angepasst – vom Testlabor bis zur automatisierten Halbleiterfabrik bis zu ISO 14644-1 bis Klasse 1. Alle Fertigungsteile werden vakuumgerecht konstruiert und nach der Fertigung gesondert gereinigt. Die Montage erfolgt in einem zertifizierten Reinram der ISO Klasse 6. Variable Raumkapazitäten von mehr als 3.900 m² gewährleisten dabei hohe Flexibilität. Eine Erweiterung des Reinraums wird, wie das Unternehmen mitteilt, im kommenden Jahr abgeschlossen. Eine reinraumgerechte Verpackung mit Stickstoff-Inertgas-Füllung schützt das fertige Produkt beim Transport.
Hersteller:
Steinmeyer Mechatronik GmbH
D-01259 Dresden