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Maskensystem für die Halbleiter-Lithografie

Exaktes Ausrichten in besonderer Umgebung: Steinmeyer Mechatronik, Dresden, hat ein Maskensystem für die UV-Lithografie in der Halbleitertechnik entwickelt. Diese Lösung erlaubt die Feinjustierung und exakte Ausrichtung von Belichtungsmasken. Die XY-Theta-Verstellung verfügt über drei Linearachsen (zwei vertikale und eine horizontale) und ist parallelkinematisch aufgebaut. Die beiden vertikalen Achsen erzeugen sowohl Vertikalhub als auch Drehung. Die parallele Anordnung der drei Antriebe ermöglicht eine Beweglichkeit in drei Freiheitsgraden. Wie der Anbieter mitteilt, ist damit eine mechanische Überbestimmung ausgeschlossen. Das Maskensystem verfügt über Verfahrwege von 150 mm in der Horizontalen sowie 50 mm in der Vertikalen und erreicht Geschwindigkeiten bis 50 mm/s. Die horizontal liegende optische Achse kann um bis zu 1,5° gedreht werden. Auf den Linearachsen beträgt die Wiederholgenauigkeit nach Angaben des Herstellers 2 µm sowie bei der Verdrehung um die optische Achse 1/500°.

 

Steinmeyer hat das System für die Anwendung unter ultravioletter Strahlung und in ultra-trockener Stickstoffatmosphäre entwickelt. Diese Umgebungsbedingungen erfordern spezielle Materialien und Schmiermittel. Zur Minimierung der Streustrahlung wurden alle Strukturteile mit einer Bilathal-Beschichtung versehen, die ultraviolette Strahlung absorbiert. Zum Einsatz kommt ein Schmiermittel auf Basis von Perfluorpolyether. Das PFPE-Öl weist die nötige chemische Stabilität sowie eine äußerst geringe Ausgasrate auf. Es ist thermisch stabil, nicht entflammbar und unlöslich in Wasser, Säuren, Basen und den meisten organischen Lösemitteln. Das Wartungskonzept wurde ebenfalls optimiert.

 

 

Hersteller:
Steinmeyer Mechatronik GmbH
01259 Dresden
Opens external link in new windowwww.steinmeyer-mechatronik.de