Newsletter | Impressum | Mediadaten | Kontakt

Storefront !

Logo von 3D-Micromac AG
Logo von Arges GmbH
Logo von COHERENT
Logo von COLANDIS GmbH
Logo von GFH GmbH
Logo von InnoLas Solutions GmbH
Logo von Kugler GmbH
Logo von LASERPLUSS AG
Logo von Leonhardt Graveurbetrieb
Logo von maxon motor ag
Logo von Nanoscribe GmbH
Logo von Physik Instrumente (PI) GmbH & Co. KG
Logo von piezosystem jena GmbH
Logo von POSALUX SA
Logo von Pulsar Photonics GmbH
Logo von SCANLAB GmbH
Logo von SPHINX Werkzeuge AG
Logo von STARLIM Spritzguss GmbH
Logo von Steinmeyer Mechatronik GmbH
Logo von WITTMANN BATTENFELD GmbH

Maskenlose Lithografie: digital und dynamisch


Mithilfe der direktschreibenden Lithografie lassen sich Mikro- und Nano­strukturen erzeugen. Dabei wird ein digitales Layout durch einen spezifischen Prozess in Mikrostrukturen auf ein Substrat übertragen, wobei keine Fotomaske benötigt wird.

Bild 1. Einsatzgebiete der direktschreibenden Lithografie
[zum Vergrößern in das Bild Klicken]

Abhängig vom bildgebenden Verfahren unterscheidet man zwischen Elektronenstrahl- und Laserlithografie sowie neueren Ver­fahren, wie zum Beispiel der Thermal Probe Litho­graphy (thermisch aktivierte Sondenlithografie). Die Elektronenstrahl- und die Laserlithografie sind seit Jahrzehnten etabliert. Erstere wird für die Erzeugung von Nanostrukturen verwendet, während die direktschreibende Laserlithografie kleinstmögliche Strukturen bis etwa 300 nm ermöglicht. Gerade in diesem Fall hat sich in den letzten Jahren ein enormer technischer Fortschritt vollzogen (Bild 1).

 

Von der Fotomaske zur Mikrofabrikation
Eine der Hauptanwendungen der direktschreibenden Laserlithografie war viele Jahre lang die Herstellung von Fotomasken, auch Reticles genannt. Fotomasken sind hochpräzise Vorlagen, wobei die auf der Maske abgebildeten Strukturen mit hohem Durchsatz auf dem Substrat repliziert werden. Verfahren, die auf diesem Prinzip beruhen, bezeichnet man deshalb auch als maskenbasierte Technologien. Typische Vertreter dieser Gattung sind zum einen Mask Aligner – sehr simple Systeme, die das auf der Fotomaske befindliche Muster durch Schattenwurf auf das Substrat abbilden. Zum anderen handelt es sich um Stepper, die die Strukturen auf der Fotomaske verkleinert auf das Substrat projizieren (Bild 2). Bei all diesen Verfahren ist die Fotomaske das bild­gebende, zentrale Element. Ihre Herstellung erfordert deshalb besonders hohe Präzision, sodass die direktschreibende Lithografie eine ideale Technologie für die Fotomaskenproduktion darstellt. [...]

 

 

Hersteller:
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
69126 Heidelberg
Tel. +49 6221 3430-0
Fax +49 6221 3430-30
Opens external link in new windowwww.himt.de

Den vollständigen Artikel lesen

Zum freien PDF-Download