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Nanoimprint-Lithografie mit SCIL

Die Nanoprägelithografie (Nanoimprint Lithography; NIL) ist ein Nanolithografie-Verfahren zur Herstellung von Nanostrukturen mittels eines nanostrukturierten Stempels. Um diese Technologie auch bei großflächigen Substraten anwenden zu können, eignet sich besonders die Verfahrensvariante ›SCIL‹ (Substrate Conformal Imprint Lithografie).

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