Ramp-up für die Nanopräge-Lithografie
NIL-Tracksystem für 300-mm-Wafer in der Hochvolumenproduktion: Die Nanopräge-Lithografie (NIL) ermöglicht die Produktion neuer Devices in vielen Märkten, wobei vor allem die Photonik und Biotechnologie im Vordergrund stehen. Weil die Nachfrage nach entsprechenden Devices weiter steigt, müssen die NIL-Lösungen für noch höhere Produktivität skalierbar sein, wobei die niedrigen Gesamtkosten (Cost of Ownership) beibehalten werden sollen. Dabei hat sich NIL als hocheffiziente Methode zur großflächigen Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen erwiesen. Die Technik zur Übertragung komplexer Muster beziehungsweise die direkte Strukturierung funktioneller Schichten mit einem breiten Spektrum an Strukturgrößen und Formen entwickelt sich in zunehmendem Maße zu einer Kerntechnologie.
Vor diesem Hintergrund präsentiert die EV Group (EVG) aus dem österreichischen St. Florian ein voll integriertes Track-System, das die Vorprozesse Reinigung, Resist-Belackung und Baking mit der ›SmartNIL‹-Nanopräge-Lithografie von EVG für Wafer bis 300 mm Durchmesser in einer Plattform vereint: der ›Hercules NIL 300 mm‹. Er wurde für Kunden entwickelt, die eine leistungsfähige und vielseitige Lösung für die Hochvolumenproduktion suchen. Das erste NIL-System auf Basis der vollständig modularen Equipment-Plattformen von EVG bietet den Kunden dank austauschbarer Module eine große Freiheit bei der Konfiguration für ihre Produktionsanforderungen, zudem ist das System als Bridge-Tool für die Bearbeitung von Wafern mit 200 mm und 300 mm Durchmesser ausgelegt. [...]
Hersteller:
EV Group
A-4782 St. Florian am Inn
Tel. +43 7712 5311 0
www.evgroup.com