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UV-basierte Prozesse in einer Plattform vereint



Das Nanopräge- und Wafer-Level-Optics-System ›EVG 7300 SmartNIL‹ von EVG

Flexible Lösung für die Volumenproduktion von optischen Elementen. Die EV Group (EVG) ist Entwickler und Hersteller von Anlagen für Waferbonding- und Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie, Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie aus St. Florian am Inn in Österreich. Kürzlich hat das Unternehmen mit dem automatisierten ›EVG 7300 SmartNIL‹ ein Nanopräge- und Wafer-Level-Optics-System vorgestellt. Dieses ist nach eigenen Angaben die fortschrittlichste Lösung des Unternehmens und vereint mehrere UV-basierte Prozesse, wie Nanoimprint-Lithographie (NIL), Linsenprägen und Linsenstapelung (UV-Bonden) in einer einzigen Plattform.

 

Dieses für die Industrie entwickelte, multifunktionale System wurde konzipiert, um den Anforderungen in anspruchsvollen F&E- und Produktionsumgebungen für eine breite Palette neuer Anwendungen gerecht zu werden, welche Mikro- und Nanostrukturierung sowie das Stapeln funktionaler Schichten benötigen. Dazu gehören Wafer-Level-Optik (WLO), optische Sensoren und Projektoren, Automobilbeleuchtung, Waveguides für Augmented Reality-Headsets, biomedizinische Geräte, Meta-Linsen und Meta-Oberflächen sowie Optoelektronik. Die Lösung unterstützt Wafergrößen von bis zu 300 mm und verfügt über eine hochpräzise Justiergenauigkeit und fortschrittliche Prozesskontrollmöglichkeiten bei gleichzeitig hohem Durchsatz. Damit erfüllt das System die Anforderungen für die Großserienfertigung einer Vielzahl von nano- und mikrooptischen Freiform- und Hochpräzisionskomponenten und -Geräten.

 

Das EVG7300-System wird sowohl als eigenständiges Gerät als auch als Modul im vollintegriertem ›Hercules NIL UV-NIL Track‹-System des Herstellers angeboten, welches je nach Konfiguration zusätzliche Vorprozesse wie Reinigung, Fotoresist-Belackung und Aushärtung sowie nachgereihte Prozesse beinhaltet, um den jeweiligen Prozessanforderungen gerecht zu werden. Das System zeichnet sich durch eine Justiergenauigkeit von bis zu 300 nm aus. Die Plattform bietet drei verschiedene Prozessmodi (Linsenprägung, Linsenstapelung sowie SmartNIL-Nanoprägetechnologie) bei gleichzeitiger Unterstützung für Substratgrößen von 150 mm- bis 300 mm-Wafern.  Produktdemonstrationen sind im NILPhotonics-Kompetenzzentrum von EVG am Firmenhauptsitz möglich.

 

EV Group

A-4782 St. Florian am Inn,

www.EVGroup.com