Substrathalter mit Neigungskompensation
Der ›Substrate Tilt Frame‹ hilft, die Präzision des Druckergebnisses insbesondere bei großflächigen Strukturen zu maximieren
Unebenheiten beim 3D-Druck ausgleichen: Eine neue Entwicklung ermöglicht den Ausgleich kleinster Unebenheiten in 2PP-3D-Druck-Substraten während des Drucks. Die Forschungs- und Entwicklungsabteilung von UpNano hat einen kippbaren Rahmen entwickelt, der Unebenheiten im Sub-μm-Bereich ausgleichen kann. Der sogenannte ›Substrate Tilt Frame‹ kann mit Chuck-Haltern für Industriestandard-Wafer zwischen 2 und 6 Zoll ausgestattet werden. Damit wird der vollflächige 2PP-3D-Druck auf Wafern bis zu 4 Zoll in der Qualität der UpNano-Drucker möglich. Der Substrate Tilt Frame passt zu jedem der bekannten lasergestützten 2PP-3D-Drucksysteme der ›NanoOne‹-Serie des Herstellers, die Strukturen über zwölf Größenordnungen mit hoher Geschwindigkeit produzieren können. Eine weitere Neuheit ist unter anderem auch ein Faserhalter, der die Herstellung integrierter optischer Systeme auf der Spitze einer optischen Faser ermöglicht. Die NanoOne-Serie wird bereits in der Elektronik, in der Mikrooptik und für biokompatible Anwendungen in der Zell- und Medizinforschung eingesetzt.
Hersteller:
UpNano GmbH
A-1030 Wien
www.upnano.at