Newsletter | Impressum | Mediadaten | Kontakt

Storefront

Logo von 3D-Micromac AG
Logo von Arges GmbH
Logo von COHERENT
Logo von COLANDIS GmbH
Logo von GFH GmbH
Logo von InnoLas Solutions GmbH
Logo von Infotech AG
Logo von LaVa-X GmbH
Logo von Leonhardt Graveurbetrieb
Logo von LT Ultra-Precision Technology GmbH
Logo von maxon motor gmbh
Logo von MKS Instruments - Newport Spectra-Physics GmbH
Logo von Nanoscribe GmbH
Logo von piezosystem jena GmbH
Logo von PM B.V.
Logo von POSALUX SA
Logo von Pulsar Photonics GmbH
Logo von SCANLAB GmbH
Logo von SPHINX Werkzeuge AG
Logo von Steinmeyer Mechatronik GmbH
Logo von Fritz Studer AG
Logo von WITTMANN BATTENFELD GmbH

Vom Spinbelacker zum Sprühentwickler



Süss MicroTec aus Garching bei München hat mit der ›RCD8‹ eine neue manuelle Geräteplattform zum Belacken und Entwickeln von Substraten vorgestellt. Eine hohe Flexibilität in den Anwendungsbereichen bei gleichzeitig niedrigen Investitionskosten zeichnet die neue Plattform aus. Zudem erlaubt das Gerät einen unproblematischen Prozesstransfer von der RCD8 auf Süss-MicroTec-Produktionsanlagen. Die RCD8 lässt sich innerhalb weniger Minuten von einem Spinbelacker zu einem Sprühentwickler umrüsten. Das Gerät kann für jede Anwendung spezifisch konfiguriert werden, angefangen bei einem einfachen manuellen Spinbelacker bis hin zu einem halbautomatischen Belacker mit Gyrset-Technologie. In der Vergangenheit wurden dedizierte Geräte der Delta-Serie zum Belacken und Entwickeln in den Segmenten MEMS, LED, Advanced Packaging sowie in der Forschung und Entwicklung eingesetzt. Diese unterschiedlichen Geräte werden nun in der neuen RCD8-Plattform vereint. Sie deckt alle notwendigen Belackungs- und Entwicklungsschritte bei den verschiedenen Anwendungsgebieten ab. Als zusätzliche Option kann die patentierte Gyrset-Technologie in das RCD8-Spinbelackungsmodul integriert werden. Sie ermöglicht bei verschiedenen Fotolacken und Anwendungen eine größere Prozessvielfalt, reduziert den Materialeinsatz deutlich und kann auch eckige Substrate vollständig und gleichmäßig mit Fotolack beschichten. Durch die große Vielfalt an Substrathalterungen und möglichen Konfigurationen können mit der RCD8 nahezu alle Substratmaterialien und -formen belackt und entwickelt werden.

 

Hersteller
Süss MicroTec AG

85748 Garching
Tel. +49 89 32007-0
Fax +49 89 32007-451
www.suss.com