Hightech-Optiken nanobearbeiten
Ionenstrahl- und Plasmatechnologien: Das Chemnitzer Unternehmen Scia Systems, Spezialist für hochgenaue, komplexe Ionenstrahl- und Plasmaprozessausrüstung in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie, präsentiert auf der Laser World of Photonics seine neuesten Prozesslösungen zum Beschichten und Strukturieren mit fortschrittlichen Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Im Fokus stehen dabei die Beschichtung und Formfehlerkorrektur von Röntgenoptiken, die Strukturierung von optischen Gittern für AR-Brillen und die Erzeugung von Mikrostrukturen für Photonische Integrierte Schaltkreise (PICs).
PICs gewinnen zunehmend an Bedeutung, da sie die Möglichkeit bieten, Daten mit optischer Geschwindigkeit zu verarbeiten und zu übertragen und dabei den Energieverbrauch im Vergleich zu herkömmlichen elektronischen Schaltkreisen deutlich zu senken. Die in PICs enthaltenen photonischen Komponenten wie Wellenleiter, Laser, Modulatoren und Detektoren wurden zur Manipulation und Übertragung von Lichtsignalen entwickelt.
Eine der entscheidenden Bearbeitungstechnologien für die Fertigung von PICs ist das Ionenstrahlätzen. Es ermöglicht die Herstellung dreidimensionaler optoelektronischer Mikrostrukturen, beispielsweise Wellenleiter und andere optische Komponenten mit Genauigkeiten im Nanometerbereich. Auch das Ionenstrahltrimmen kommt bei der Herstellung von PICs zum Einsatz, um die Schichtdicke im Nanometerbereich zu korrigieren. Zudem kann die Oberfläche von PIC-Bauelementen mittels Ionenstrahl poliert werden. Dies führt zur Verbesserung der Mikro-Rauheit, minimiert Defekte und steigert somit die Ausbeute und Zuverlässigkeit der PIC-Elemente.