Dünnschichtbearbeitung für Halbleiter und Optiken
Mehr Durchsatz im Cluster: Das Chemnitzer Unternehmen Scia Systems stellt die modulare Plattform ›Cluster 200‹ für Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse auf Basis fortschrittlicher Ionenstrahl- und Plasmatechnologien vor. Das Cluster-System gibt es in zwei unterschiedlichen Ausführungen: Entweder kombiniert es mehrere identische Prozesskammern, um den Durchsatz erheblich (bis zu fünffach) zu steigern, oder es werden verschiedene Technologien kombiniert, sodass mehrere Prozessschritte nacheinander auf einem Wafer durchgeführt werden können – ohne das Vakuum zu unterbrechen.
Das Cluster-System kann kundenspezifisch konfiguriert werden, wobei bis zu fünf Prozesskammern und bis zu zwei Beladeschleusen an der zentralen Transferkammer installiert werden. Aufgrund seiner geringeren Stellfläche, des niedrigeren Energieverbrauchs und der optimierten Logistik bietet der Cluster 200 im Vergleich zu einer gleichwertigen Anzahl von Einzelkammer-Prozesssystemen deutlich reduzierte Betriebskosten.